2,400 matches
-
Grupul parlamentar al P.D. 10. Iliescu Valentin Adrian, deputat, Grupul parlamentar al P.D. 11. Petrescu Ilie, senator, Grupul parlamentar al P.R.M. 12. Mircea Costache, deputat, Grupul parlamentar al P.R.M. 13. Szabo Ilona, senator, Grupul parlamentar al U.D.M.R. 14. Popescu Ionica, deputat, Grupul parlamentar al P.C. 15. Vainer Aurel, deputat, Grupul parlamentar al minorităților naționale 16. Președintele Consiliului Național al Audiovizualului 17. Președintele Societății Române de Radiodifuziune 18. Președintele Societății Române de Televiziune. ----------
EUR-Lex () [Corola-website/Law/192454_a_193783]
-
cu plasmă, după cum urmează: 1. surse de energie cu microunde și antene pentru producerea sau accelerarea ionilor cu frecvența de ieșire mai mare de 30 GHz și putere medie de ieșire mai mare de 50 kW; 2. bobine de excitație ionică, de radiofrecvență, pentru frecvențe mai mari de 100 kHz și capabile să suporte o putere medie mai mare de 40 kW; 3. sisteme generatoare de plasmă de uraniu; 4. sisteme de manipulare a metalelor lichide pentru uraniu sau aliaje de
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
precizie destinate mașinilor pentru înfășurarea filamentelor menționate în 1B201.a. 1B225 Celule electrolitice pentru producția de fluor, a căror capacitate de producție depășește 250 g de fluor pe oră. 1B226 Separatoare electromagnetice de izotopi concepute pentru sau echipate cu surse ionice unice sau multiple, capabile să producă un curent total de fascicul ionic de 50 mA sau mai mult. Notă: 1B226 cuprinde separatoare: a. capabile de îmbogățirea izotopilor stabili; b. în care sursele de ioni și colectorii se află în interiorul câmpului
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
electrolitice pentru producția de fluor, a căror capacitate de producție depășește 250 g de fluor pe oră. 1B226 Separatoare electromagnetice de izotopi concepute pentru sau echipate cu surse ionice unice sau multiple, capabile să producă un curent total de fascicul ionic de 50 mA sau mai mult. Notă: 1B226 cuprinde separatoare: a. capabile de îmbogățirea izotopilor stabili; b. în care sursele de ioni și colectorii se află în interiorul câmpului magnetic și acele configurații în care ele sunt exterioare câmpului. 1B227 Convertizoare
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
sau asistare de plasmă și 2. oricare din următoarele: a. încorporează dispozitive de etanșare rotative pentru vid înalt (egal sau mai mic de 0,01 Pa) sau b. încorporează controlul grosimii acoperirii in situ; b. echipamente de producție a implantării ionice, care au curenți de fascicul de 5 mA sau mai mari; c. echipamente de producție pentru depuneri fizice din vapori cu fascicul de electroni, (EB-PVD), care încorporează sisteme de alimentare cu puteri de peste 80 kW, care au oricare din caracteristicile
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
a depunerii de 15 μm/oră sau mai mare; f. echipamente de producție pentru depunerea cu arc catodic, care încorporează o rețea de electromagneți pentru mecanismul de direcționare a spotului arcului electric pe catod; g. echipamente de producție pentru placare ionică, care permit măsurarea in situ a oricăreia din următoarele caracteristici: 1. grosimea depunerii pe substrat și controlul vitezei sau 2. caracteristicile optice. Notă: 2B005 nu supune controlului echipamentele pentru depunere chimică din vapori, cu arc catodic, prin pulverizare catodică, prin
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
permit măsurarea in situ a oricăreia din următoarele caracteristici: 1. grosimea depunerii pe substrat și controlul vitezei sau 2. caracteristicile optice. Notă: 2B005 nu supune controlului echipamentele pentru depunere chimică din vapori, cu arc catodic, prin pulverizare catodică, prin placare ionică sau implementare ionică, special concepute pentru scule așchietoare sau scule de uzinare. 2B006 Sisteme și echipamente pentru măsurare sau control dimensional, după cum urmează: a. mașini de măsurat în coordonate (CMM), comandate de calculator, cu "control numeric" sau care au o
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
situ a oricăreia din următoarele caracteristici: 1. grosimea depunerii pe substrat și controlul vitezei sau 2. caracteristicile optice. Notă: 2B005 nu supune controlului echipamentele pentru depunere chimică din vapori, cu arc catodic, prin pulverizare catodică, prin placare ionică sau implementare ionică, special concepute pentru scule așchietoare sau scule de uzinare. 2B006 Sisteme și echipamente pentru măsurare sau control dimensional, după cum urmează: a. mașini de măsurat în coordonate (CMM), comandate de calculator, cu "control numeric" sau care au o eroare maximă admisibilă
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
4) Straturi dielectrice (15) Molibden și aliaje de molibden Straturi dielectrice (15) Beriliu și aliaje de beriliu Straturi dielectrice (15) Boruri Beriliu "Materiale pentru ferestre de senzori" (9) Straturi dielectrice (15) Aliaje de titan (13) Boruri Nitruri B.2. Depunere ionică fizică din vapori de material obținuți prin încălzire rezistivă (PVD) (placare ionică) Ceramici (19) și sticlă cu dilatare scăzută (14) Straturi dielectrice (15) Carbon cu caracteristici asemănătoare diamantului (DLC) (17) "Compozite" carbon-carbon, cu "matrice" ceramice și cu "matrice" metalică Straturi
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
Beriliu și aliaje de beriliu Straturi dielectrice (15) Boruri Beriliu "Materiale pentru ferestre de senzori" (9) Straturi dielectrice (15) Aliaje de titan (13) Boruri Nitruri B.2. Depunere ionică fizică din vapori de material obținuți prin încălzire rezistivă (PVD) (placare ionică) Ceramici (19) și sticlă cu dilatare scăzută (14) Straturi dielectrice (15) Carbon cu caracteristici asemănătoare diamantului (DLC) (17) "Compozite" carbon-carbon, cu "matrice" ceramice și cu "matrice" metalică Straturi dielectrice (15) Carbură dură de tungsten (16), Carbură de siliciu Straturi dielectrice
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
Substraturi dielectrice (15) Beriliu și aliaje de beriliu Boruri Substraturi dielectrice (15) Beriliu Materiale pentru ferestre de senzori (9) Substraturi dielectrice (15) Carbon cu caracteristici asemănătoare diamantului (DLC) (17) Metale și aliaje refractare(8) Aluminuri Siliciuri Oxizi Carburi G. Placare ionică Oțeluri pentru lagăre de înaltă temperatură Adaosuri de crom, tantal sau niobiu (columbiu) Aliaje de titan (13) Boruri Nitruri Beriliu și aliaje de beriliu Boruri Carbură dură de tungsten (16) Carburi Nitruri (*) Numerele din paranteză se referă la notele ce
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
cursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor. Procedeele TE-PVD specifice sunt următoarele: 1. PVD cu fascicul de electroni folosește un fascicul de electroni pentru încălzirea și evaporarea materialului care formează depunerea; 2. PVD cu încălzire rezistivă asistată ionic folosește surse de încălzire cu rezistență electrică în combinație cu fascicole ionice pentru a produce un flux controlat și uniform din materialul de acoperire evaporat; 3. evaporarea "laser" folosește un fascicul "laser" cu undă pulsatorie sau continuă pentru încălzirea materialului
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
specifice sunt următoarele: 1. PVD cu fascicul de electroni folosește un fascicul de electroni pentru încălzirea și evaporarea materialului care formează depunerea; 2. PVD cu încălzire rezistivă asistată ionic folosește surse de încălzire cu rezistență electrică în combinație cu fascicole ionice pentru a produce un flux controlat și uniform din materialul de acoperire evaporat; 3. evaporarea "laser" folosește un fascicul "laser" cu undă pulsatorie sau continuă pentru încălzirea materialului care formează depunerea; 4. depunerea cu arc catodic folosește un catod consumabil
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
poate fi, fie un con atașat la periferia catodului printr-un izolator, fie camera însăși. Polarizarea substratului se utilizează pentru depunerile fără vizualizare. NB: Această definiție nu se aplică la depunerea cu arc catodic aleatorie cu substraturi nepolarizate. 5. placarea ionică este o modificare specială a procedeului general TE-PVD, în care o sursă de plasmă sau de ioni este folosită pentru ionizarea materialului care se depune, iar o polarizare negativă se aplică pe substrat pentru a facilita extragerea materialului care
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
care este folosit pentru mărirea aderenței acoperirii și a vitezei de depunere și la depunerea prin pulverizare catodică ameliorată prin radiofrecvență (RF), folosită pentru a permite vaporizarea materialelor de acoperire nemetalice. NB 2: Pentru activarea depunerii pot fi folosite fascicule ionice de mică energie (mai mici de 5 keV). g. implantarea ionică este un procedeu de acoperire prin modificarea suprafeței în care elementul de aliat este ionizat, accelerat printr-un gradient de potențial și implantat în zona superficială a substratului. Aceasta
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
depunere și la depunerea prin pulverizare catodică ameliorată prin radiofrecvență (RF), folosită pentru a permite vaporizarea materialelor de acoperire nemetalice. NB 2: Pentru activarea depunerii pot fi folosite fascicule ionice de mică energie (mai mici de 5 keV). g. implantarea ionică este un procedeu de acoperire prin modificarea suprafeței în care elementul de aliat este ionizat, accelerat printr-un gradient de potențial și implantat în zona superficială a substratului. Aceasta include procedeele în care implantarea ionică se realizează simultan cu depunerea
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
de 5 keV). g. implantarea ionică este un procedeu de acoperire prin modificarea suprafeței în care elementul de aliat este ionizat, accelerat printr-un gradient de potențial și implantat în zona superficială a substratului. Aceasta include procedeele în care implantarea ionică se realizează simultan cu depunerea fizică din vapori cu fascicul de electroni sau cu depunere prin pulverizare catodică. CATEGORIA 3 ELECTRONICĂ 3A Sisteme, echipamente și componente Nota 1: Statutul de control al echipamentelor și al componentelor descrise în 3A001 sau
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
procedeul chimic organometalic (MOCVD) special concepute pentru creșterea cristalelor semiconductorilor compuși prin reacția chimică dintre materialele menționate în 3C003 sau 3C004; 3. echipamente pentru creșterea epitaxială cu jet molecular care utilizează surse gazoase sau solide; b. echipamente concepute pentru placare ionică, care au oricare dintre următoarele caracteristici: 1. o energie a fascicolului (tensiune de accelerare) ce depășește 1 MeV; 2. concepute și optimizate special pentru a funcționa la o energie a fascicolului (tensiune de accelerare) mai mică de 2 keV; 3
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
de telecomunicații care au oricare dintre următoarele caracteristici, funcțiuni sau particularități: 1. special concepute pentru a rezista la efecte electronice tranzitorii sau la impulsul electromagnetic, ambele consecință a unei explozii nucleare; 2. cu rezistență specială la radiații gama, neutronice sau ionice sau 3. special concepute pentru a funcționa la temperaturi situate în afara domeniului cuprins între 218 K (- 55 °C) și 397 K (124 °C); Notă: 5A001.a.3. se aplică numai echipamentelor electronice. Notă: 5A001.a.2. și 5A001.a.3
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
referă la 0C001 sau la produsele de la 0C002 care sunt excluse din anexa IV. NB: Pentru 0C003 și 0C004, numai pentru utilizarea într-un "reactor nuclear" (în cadrul 0A001.a.). 1B226 Separatoare electromagnetice de izotopi concepute pentru sau echipate cu surse ionice unice sau multiple, capabile să producă un curent de fascicul ionic total de 50 mA sau mai mult. Notă: 1B226 cuprinde separatoare: a. care pot îmbogăți izotopii stabili; b. în care sursele de ioni și colectorii se află în interiorul câmpului
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
din anexa IV. NB: Pentru 0C003 și 0C004, numai pentru utilizarea într-un "reactor nuclear" (în cadrul 0A001.a.). 1B226 Separatoare electromagnetice de izotopi concepute pentru sau echipate cu surse ionice unice sau multiple, capabile să producă un curent de fascicul ionic total de 50 mA sau mai mult. Notă: 1B226 cuprinde separatoare: a. care pot îmbogăți izotopii stabili; b. în care sursele de ioni și colectorii se află în interiorul câmpului magnetic și acele configurații în care acestea sunt exterioare câmpului. 1C012
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
0,84 la 246 nm și de 0,80 la 261 nm. 9.3. Extractul trebuie întotdeauna să fie diluat cu faza mobilă, altfel timpul de reținere al vârfului de amproliu se poate schimba în mod semnificativ din cauza variațiilor forței ionice. Partea B DOZAJUL DICLAZURILULUI 2,6 cloro-alfa-(4-clorofenil)-4-[4,5-dihidro-3,5-dioxo-1,2,4-triazin-2(3H)-il]fenil-acetonitril 1. Obiectul și domeniul de aplicare Prezenta metodă permite dozarea diclazurilului în furaje și premixuri. Limita de detecție este de 0,1 mg
jrc4087as1999 by Guvernul României () [Corola-website/Law/89250_a_90037]
-
ioni Notă introductiva: Diferența neînsemnata de masă dintre izotopii de uraniu cauzează ușoare modificări în echilibrul reacției chimice, fenomen care poate fi utilizat ca bază pentru separarea izotopilor. Au fost dezvoltate cu succes două procedee: schimbul chimic lichid-lichid și schimbul ionic solid-lichid. În procedeul de schimb chimic lichid-lichid, două faze lichide nemiscibile (apoasa și organică) sunt puse în contact prin circulare în contracurent, în scopul de a obține efectul de cascadă corespunzător la mii de trepte de separare. Fază apoasa se
EUR-Lex () [Corola-website/Law/189167_a_190496]
-
ioni metalici. În consecință, se folosesc coloane și conducte fabricate din plastic ori căptușite în interior cu plastic (inclusiv prin folosirea polimerilor pe bază de fluorocarburi) și/sau coloane și conducte căptușite în interior cu sticlă. În procedeul de schimb ionic solid-lichid îmbogățirea este realizată prin adsorbția/desorbția uraniului pe o rășina schimbătoare de ioni sau un adsorbant, speciale și cu acțiune foarte rapidă. O soluție de uraniu în acid clorhidric și alți agenți chimici este trecută prin coloanele cilindrice de
EUR-Lex () [Corola-website/Law/189167_a_190496]
-
de la extremitatea finală a cascadei; ... b) echipament care separă apă de acidul clorhidric, astfel încât apă și acidul clorhidric concentrat să poată fi reintroduse în proces în punctele potrivite. ... 5.6.6. Rășini schimbătoare de ioni/adsorbanți cu acțiune rapidă (schimb ionic) Rășini schimbătoare de ioni/adsorbanți cu acțiune rapidă (schimb ionic) - rășini schimbătoare de ioni sau adsorbanți cu reacție rapidă, special proiectați sau fabricați pentru îmbogățirea uraniului prin procedeul de schimb ionic, incluzând rășini poroase macroreticulare și/sau structuri peliculare, în
EUR-Lex () [Corola-website/Law/189167_a_190496]