54,014 matches
-
cu aluminură. 4. Termenul "amestecuri" ale acestora include materialul infiltrat, compozițiile graduate, depunerile simultane și depunerile multistrat și sunt obținute printr-unul sau mai multe din procedeele de acoperire menționate în tabel. 5. 'MCrA1X' se referă la un aliaj de acoperire în care M este cobalt, fier, nichel sau combinații ale acestora, iar X este hafniu, ytriu, siliciu, tantal în orice cantitate sau alte adaosuri intenționate în proporție de peste 0,01 % în diverse combinații, cu excepția: a. Acoperirilor CoCrAlY care conțin mai
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
la un aliaj de acoperire în care M este cobalt, fier, nichel sau combinații ale acestora, iar X este hafniu, ytriu, siliciu, tantal în orice cantitate sau alte adaosuri intenționate în proporție de peste 0,01 % în diverse combinații, cu excepția: a. Acoperirilor CoCrAlY care conțin mai puțin de 22 % în greutate crom, mai puțin de 7 % în greutate aluminiu și mai puțin de 2 % în greutate ytriu; b. Acoperirilor CoCrAlY care conțin de la 22 la 24 % în greutate crom, de la 10 la
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
alte adaosuri intenționate în proporție de peste 0,01 % în diverse combinații, cu excepția: a. Acoperirilor CoCrAlY care conțin mai puțin de 22 % în greutate crom, mai puțin de 7 % în greutate aluminiu și mai puțin de 2 % în greutate ytriu; b. Acoperirilor CoCrAlY care conțin de la 22 la 24 % în greutate crom, de la 10 la 12 % în greutate aluminiu și de la 0,5 la 0,7 % în greutate ytriu sau c. Acoperirilor NiCrAlY care conțin de la 21 la 23 % în greutate crom
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
aluminiu și mai puțin de 2 % în greutate ytriu; b. Acoperirilor CoCrAlY care conțin de la 22 la 24 % în greutate crom, de la 10 la 12 % în greutate aluminiu și de la 0,5 la 0,7 % în greutate ytriu sau c. Acoperirilor NiCrAlY care conțin de la 21 la 23 % în greutate crom, de la 10 la 12 % în greutate aluminiu și de la 0,9 la 1,1 % în greutate ytriu. 6. Expresia 'aliaje de aluminiu' se referă la aliaje care au rezistența limită
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
12. 'Zircon modificat' se referă la adaosuri de alți oxizi metalici (de exemplu: oxid de calciu, oxid de magneziu, oxid de ytriu, oxid de hafniu, oxizi de pământuri rare), la zirconia în scopul stabilizării anumitor faze cristaline și compozițiilor fazelor. Acoperirile pentru bariere termice realizate din oxid de zirconiu modificat cu oxid de calciu sau magneziu prin amestec sau topire, nu sunt supuse controlului. 13. 'Aliajele din titan' sunt aliaje pentru tehnica aerospațială care au rezistența limită la rupere de 900
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
sau mai mare, măsurată la 293 K (20 °C). 14. 'Sticlele cu dilatare redusă' sunt sticle care au un coeficient de dilatare termică de 1 10-7 K-1 sau mai mic, măsurat la 293 K (20 °C). 15. 'Straturile dielectrice' sunt acoperiri constituite din multistraturi de materiale izolante, în care proprietățile de interferență ale unui ansamblu compus din materiale cu diverși indici de refracție sunt folosite pentru reflectarea, transmiterea sau absorbția diverselor benzi de lungime de undă. Straturile dielectrice sunt cele în
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
includ materialele ceramice care conțin 5 % din greutate sau mai mult, argilă sau ciment, luate drept constituenți separați sau în combinație. Procedeele menționate în coloana 1 a tabelului sunt definite după cum urmează: a. depunerea chimică din vapori (CVD) este o acoperire stratificată sau un procedeu de acoperire cu modificarea suprafeței, în care un metal, aliaj, "compozit", dielectric sau ceramic este depus pe un substrat încălzit. Agenții gazoși sunt reduși sau combinați în vecinătatea unui substrat care duc la depunerea materialului elementar
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
din greutate sau mai mult, argilă sau ciment, luate drept constituenți separați sau în combinație. Procedeele menționate în coloana 1 a tabelului sunt definite după cum urmează: a. depunerea chimică din vapori (CVD) este o acoperire stratificată sau un procedeu de acoperire cu modificarea suprafeței, în care un metal, aliaj, "compozit", dielectric sau ceramic este depus pe un substrat încălzit. Agenții gazoși sunt reduși sau combinați în vecinătatea unui substrat care duc la depunerea materialului elementar, aliajului sau compusului dorit pe substrat
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
procedeul cimentare în mediu închis în contact cu amestecul, cu excepția faptului că substratul de acoperit nu este în contact cu amestecul de pulberi. b. depunere fizică din vapori de material obținuți prin evaporare termică (TE-PVD) este un procedeu de acoperire în straturi care se realizează în vid la o presiune mai mică de 0,1 Pa, în care pentru evaporarea materialului de acoperire se folosește o sursă de energie termică. Acest procedeu constă în condensarea sau depunerea materialului evaporat pe
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
b. depunere fizică din vapori de material obținuți prin evaporare termică (TE-PVD) este un procedeu de acoperire în straturi care se realizează în vid la o presiune mai mică de 0,1 Pa, în care pentru evaporarea materialului de acoperire se folosește o sursă de energie termică. Acest procedeu constă în condensarea sau depunerea materialului evaporat pe substraturile aflate într-o poziție adecvată. Introducerea adițională a gazelor în camera de vid în timpul procesului de acoperire pentru sinteza compușilor de acoperire
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
care pentru evaporarea materialului de acoperire se folosește o sursă de energie termică. Acest procedeu constă în condensarea sau depunerea materialului evaporat pe substraturile aflate într-o poziție adecvată. Introducerea adițională a gazelor în camera de vid în timpul procesului de acoperire pentru sinteza compușilor de acoperire este o modificare obișnuită a procedeului. Utilizarea fasciculelor de ioni sau electroni sau a plasmei pentru activarea sau facilitarea depunerii acoperirii este, de asemenea, o modificare obișnuită în cadrul acestui procedeu. Se pot utiliza în aceeași
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
acoperire se folosește o sursă de energie termică. Acest procedeu constă în condensarea sau depunerea materialului evaporat pe substraturile aflate într-o poziție adecvată. Introducerea adițională a gazelor în camera de vid în timpul procesului de acoperire pentru sinteza compușilor de acoperire este o modificare obișnuită a procedeului. Utilizarea fasciculelor de ioni sau electroni sau a plasmei pentru activarea sau facilitarea depunerii acoperirii este, de asemenea, o modificare obișnuită în cadrul acestui procedeu. Se pot utiliza în aceeași măsură instrumente de control pentru
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
o poziție adecvată. Introducerea adițională a gazelor în camera de vid în timpul procesului de acoperire pentru sinteza compușilor de acoperire este o modificare obișnuită a procedeului. Utilizarea fasciculelor de ioni sau electroni sau a plasmei pentru activarea sau facilitarea depunerii acoperirii este, de asemenea, o modificare obișnuită în cadrul acestui procedeu. Se pot utiliza în aceeași măsură instrumente de control pentru măsurarea în cursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor. Procedeele TE-PVD specifice sunt următoarele: 1. PVD cu fascicul
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
sau electroni sau a plasmei pentru activarea sau facilitarea depunerii acoperirii este, de asemenea, o modificare obișnuită în cadrul acestui procedeu. Se pot utiliza în aceeași măsură instrumente de control pentru măsurarea în cursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor. Procedeele TE-PVD specifice sunt următoarele: 1. PVD cu fascicul de electroni folosește un fascicul de electroni pentru încălzirea și evaporarea materialului care formează depunerea; 2. PVD cu încălzire rezistivă asistată ionic folosește surse de încălzire cu rezistență electrică în
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
de electroni pentru încălzirea și evaporarea materialului care formează depunerea; 2. PVD cu încălzire rezistivă asistată ionic folosește surse de încălzire cu rezistență electrică în combinație cu fascicole ionice pentru a produce un flux controlat și uniform din materialul de acoperire evaporat; 3. evaporarea "laser" folosește un fascicul "laser" cu undă pulsatorie sau continuă pentru încălzirea materialului care formează depunerea; 4. depunerea cu arc catodic folosește un catod consumabil din materialul care formează depunerea și care realizează o descărcare în arc
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
polarizare negativă se aplică pe substrat pentru a facilita extragerea materialului care se depune din plasmă. Introducerea materialelor reactive, evaporarea solidelor în interiorul camerei de procesare și folosirea instrumentelor pentru a asigura măsurarea pe parcursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor sunt modificări obișnuite ale procedeului. c. cimentarea în mediu închis în contact cu amestecul este o acoperire de modificare a suprafeței sau un procedeu de acoperire cu straturi suprapuse, în care substratul este imersat într-un amestec de pulberi care
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
materialelor reactive, evaporarea solidelor în interiorul camerei de procesare și folosirea instrumentelor pentru a asigura măsurarea pe parcursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor sunt modificări obișnuite ale procedeului. c. cimentarea în mediu închis în contact cu amestecul este o acoperire de modificare a suprafeței sau un procedeu de acoperire cu straturi suprapuse, în care substratul este imersat într-un amestec de pulberi care constă în: 1. pulberi metalice care se depun (de obicei aluminiu, crom, siliciu sau combinații ale acestora
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
folosirea instrumentelor pentru a asigura măsurarea pe parcursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor sunt modificări obișnuite ale procedeului. c. cimentarea în mediu închis în contact cu amestecul este o acoperire de modificare a suprafeței sau un procedeu de acoperire cu straturi suprapuse, în care substratul este imersat într-un amestec de pulberi care constă în: 1. pulberi metalice care se depun (de obicei aluminiu, crom, siliciu sau combinații ale acestora); 2. un activator (în mod normal o sare halogenată
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
și 3. o pulbere inertă, cel mai frecvent alumină. Substratul și amestecul de pulberi este introdus într-o retortă care este încălzită între 1 030 K (757 °C) și 1 375 K (1 102 °C) un timp suficient pentru depunerea acoperirii. d. pulverizarea catodică din plasmă este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
și amestecul de pulberi este introdus într-o retortă care este încălzită între 1 030 K (757 °C) și 1 375 K (1 102 °C) un timp suficient pentru depunerea acoperirii. d. pulverizarea catodică din plasmă este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le proiectează pe substrat, pe care se formează în consecință o
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
375 K (1 102 °C) un timp suficient pentru depunerea acoperirii. d. pulverizarea catodică din plasmă este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le proiectează pe substrat, pe care se formează în consecință o acoperire integral aderentă. pulverizarea cu plasmă poate fi o pulverizare la joasă presiune sau o pulverizare catodică din plasmă de
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le proiectează pe substrat, pe care se formează în consecință o acoperire integral aderentă. pulverizarea cu plasmă poate fi o pulverizare la joasă presiune sau o pulverizare catodică din plasmă de mare viteză. NB 1: Presiune joasă înseamnă presiunea sub presiunea atmosferică. NB 2: Mare viteză se referă la viteze ale gazului
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
în care o pulbere metalică sau ceramică cu un liant organic, aflată în suspensie într-un lichid este aplicată pe substrat prin pulverizare, imersie sau vopsire urmată de uscare în aer sau în cuptor și un tratament termic pentru obținerea acoperirii dorite. f. depunerea prin pulverizare catodică este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse care se bazează pe fenomenul transferului de energie cinetică, în care ionii pozitivi sunt accelerați de un câmp electric și proiectați pe suprafața unei ținte (materialul
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
aflată în suspensie într-un lichid este aplicată pe substrat prin pulverizare, imersie sau vopsire urmată de uscare în aer sau în cuptor și un tratament termic pentru obținerea acoperirii dorite. f. depunerea prin pulverizare catodică este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse care se bazează pe fenomenul transferului de energie cinetică, în care ionii pozitivi sunt accelerați de un câmp electric și proiectați pe suprafața unei ținte (materialul de acoperit). Energia cinetică degajată prin șocul ionilor este suficientă pentru
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
prin șocul ionilor este suficientă pentru eliberarea atomilor din suprafața țintă și depunerea lor pe un substrat poziționat adecvat. NB 1: Tabelul se referă numai la depunerile prin pulverizare cu triodă, magnetron sau reactiv care este folosit pentru mărirea aderenței acoperirii și a vitezei de depunere și la depunerea prin pulverizare catodică ameliorată prin radiofrecvență (RF), folosită pentru a permite vaporizarea materialelor de acoperire nemetalice. NB 2: Pentru activarea depunerii pot fi folosite fascicule ionice de mică energie (mai mici de
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]