3 matches
-
multistrat, care utilizează metode fotooptice cu raze X, care au oricare dintre următoarele caracteristici: a. o lungime de undă a sursei de lumină mai mică de 245 nm sau b. capabile să producă un eșantion cu o dimensiune a 'elementului resolubil minimal' de 180 nm sau mai mică; Notă tehnică: Dimensiunea 'elementului resolubil minimal' este calculată cu formula: MRF = (Lungimea de undă a sursei luminoase de expunere în nm) (factor K) apertura numerică unde: factorul K = 0,45 MRF = dimensiunea elementului
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
următoarele caracteristici: a. o lungime de undă a sursei de lumină mai mică de 245 nm sau b. capabile să producă un eșantion cu o dimensiune a 'elementului resolubil minimal' de 180 nm sau mai mică; Notă tehnică: Dimensiunea 'elementului resolubil minimal' este calculată cu formula: MRF = (Lungimea de undă a sursei luminoase de expunere în nm) (factor K) apertura numerică unde: factorul K = 0,45 MRF = dimensiunea elementului resolubil minimal. 2. echipamente special concepute pentru executarea măștilor sau prelucrarea dispozitivelor
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]
-
minimal' de 180 nm sau mai mică; Notă tehnică: Dimensiunea 'elementului resolubil minimal' este calculată cu formula: MRF = (Lungimea de undă a sursei luminoase de expunere în nm) (factor K) apertura numerică unde: factorul K = 0,45 MRF = dimensiunea elementului resolubil minimal. 2. echipamente special concepute pentru executarea măștilor sau prelucrarea dispozitivelor semiconductoare care utilizează deflexia unui fascicul focalizat de electroni, de ioni sau "laser", care au oricare dintre următoarele caracteristici: a. dimensiunea spotului mai mică de 0,2 μm; b
32006R0394-ro () [Corola-website/Law/295187_a_296516]